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磁控共濺鍍設(shè)備是指同時有兩個或多個磁控濺鍍槍，濺鍍於被鍍物上。磁控共濺鍍主要用於-複合金屬或複合材料，通過分別優(yōu)化每一支磁控濺鍍槍（靶材）的功率來控制薄膜品質(zhì)，其薄膜厚度取決於濺鍍時間。
