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簡要描述：激光橢偏儀多角度SE 400adv PV在632.8nm的氦氖激光波長下，在紋理化的單晶和多晶硅片上提供防反射單膜的膜厚和折射率。可更換的晶片載片器允許對多晶晶片和堿性織構(gòu)的單晶晶片進行測量。
產(chǎn)品型號：SE 400adv PV廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時間：2025-10-20訪 問 量：2014相關(guān)文章
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| 品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,電子/電池 |
激光橢偏儀
防反射涂層的國際標準
目前國內(nèi)外已有330多臺SE 400adv PV激光橢偏儀用于表征防反射膜。
粗糙表面分析
高靈敏度和超低噪聲檢測允許在非理想，雜散光造成表面的測量，典型的紋理單晶和多晶硅太陽能電池。
高度準確
SE 400adv PV激光橢偏儀具有穩(wěn)定的激光光源、穩(wěn)定的溫度補償裝置、超低噪聲探測器，因而具有穩(wěn)定性和精度。
多角度激光橢偏儀SE 400adv PV在632.8nm的氦氖激光波長下，在紋理化的單晶和多晶硅片上提供防反射單膜的膜厚和折射率。可更換的晶片載片器允許對多晶晶片和堿性織構(gòu)的單晶晶片進行測量。
激光橢偏儀SE 400adv PV特別適用于分析SiNx、ITO、TiO2薄膜以及SiO2和Al2O3薄膜鈍化層。雙層堆疊膜可以在光滑的基板上進行分析。
SE 400adv PV是一種緊湊的儀器，快速上升和運行。SENTECH簡單易用，基于配方的軟件包括符合研發(fā)和生產(chǎn)環(huán)境質(zhì)量控制要求的預定義應用程序的綜合包。
一種用于光伏應用的便攜式激光橢偏儀可用于在整個生產(chǎn)線運行之前，建立和測試大型PECVD設(shè)備。
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